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1.真空室
  涂层设备主要有连续涂层生产线及单室涂层机两种形式,不锈钢材料制造、氩弧焊接、表面进行化学抛光处理,真空室组件上焊有各种规格的法兰接口。

  2.真空获得部分

在真空技术中,真空获得部分是重要组成部分。真空的获得不是一种真空设备和方法所能达到的,必须将几种泵联合使用,如机械泵、罗茨泵分子泵系统等。


  3.真空测量部分
  真空系统的真空测量部分,就是要对真空室内的压强进行测量。像真空泵一样,没有一种真空计能测量整个真空范围,人们于是按不同的原理和要求制成了许多种类的真空计。如热偶计,电离计,皮拉尼计等等。

  4.电源供给部分
  靶电源主要有直流电源、中频电源、脉冲电源、射频电源(RF),常见的电源厂商有AE,ADL,霍廷格等

  5.工艺气体输入系统
  工艺气体,如氩气(Ar)、氪气(Kr)、氮气(N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氢气(H2)、氧气(O2)等,一般均由气瓶供应,经气体减压阀、气体截止阀、管路、气体流量计、电磁阀、压电阀,然后通入真空室。这种气体输入系统的优点是,管路简捷、明快,维修或更换气瓶容易。各涂层机之间互不影响。也有多台涂层机共用一组气瓶的情况,这种情况在一些规模较大的涂层车间可能有机会看到。它的好处是,减少气瓶占用量,统一规划、统一布局。缺点是,由于接头增多,使漏气机会增加。而且,各涂层机之间会互相干扰,一台涂层机的管路漏气,有可能会影响到其他涂层机的产品质量。此外,更换气瓶时,必须保证所有机台都处于非用气状态。

  6.机械传动部分
   涂层要求周边必须厚度均匀一致,因此,在涂层过程中须有三个转动量才能满足要求。即在要求大工件台转动(I)的同时,小的工件承载台也转动( II),并且工件本身还能同时自转(III)。在机械设计上,一般是在大工件转盘底部中央为一大的主动齿轮,周围是一些小的星行轮与之啮合,如果要实现产品自转的话,一般用拨叉拨动工件自转。

  7.加热及测温部分

 涂层设备一般有不同位置的加热器,用热电偶测控温度。但是,由于热电偶装夹的位置与工件位置不同,温度读数不可能是工件的真实温度。要想测得工件的真实温度,有很多方法,可以在工件上装高温试纸或热偶计。


  8.离子蒸发及溅射源
  多弧镀的蒸发源一般为圆饼形,俗称圆饼靶,也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁,通过前后移动磁铁,改变磁场强度,可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度,要给靶座不断通入冷却水。为了保证靶与靶座之间的高导电、导热性,还可以在靶与靶座之间加锡垫片。
  磁控溅射镀膜一般采用长方形或圆柱形溅射阴极。

  9.水冷系统
一般由冷水塔,冰水机,水泵等组成。


  10.工控系统

 (青岛优百宇真空设备股份有限公司主营多弧离子真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、中频磁控真空镀膜设备、蒸发真空镀膜设备、光学真空镀膜设备、卷绕式真空镀膜设备、DLC真空镀膜机+工模具镀膜系列,透明导电膜镀膜生产线和连续式磁控溅射镀膜生产线以及镀膜加工hiarctow.com)


2020年06月14日

真空镀膜系统主要构成

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